檢索結果:共10筆資料 檢索策略: "陳炤彰".ccommittee (精準) and year="106"
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本研究探討不同紙漿複合材料(Pulp composites material)之材料配比對於熱性質、流動性質與射出模造成形試片與成品之機械性質的影響,並找出最佳材料後,以不同之製程參數進行全因子射出…
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本研究主要為研發線上拋光墊監測系統,透過彩色共軛焦量測系統架設應用於旋轉式拋光機台,利用拋光盤面的旋轉運動以及搖臂的搖擺旋轉運動,搭配彩色共軛焦系統擷取高度資訊,進行線上監測之拋光墊表面形貌的掃描及…
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化學機械平坦化(Chemical Mechanical Planarization, CMP)目前已被廣泛應用於IC產業中,隨著近年來半導體線寬不斷縮減,CMP製程之穩定性與重現性不斷面臨挑戰。而在…
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本研究旨在開發一新型異質結合方法 (Heterogeneous Bonding),藉由界面陽極氧化鋁 (Anodic Aluminum Oxide, AAO)之次微米孔洞結構以物理機械性接合方式結合…
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本研究主要為設計雙向交錯式電極,研發新一代電致動力輔助化學平坦化(Electro-Kinetic Force Chemical Mechanical Plolishing, EKF-CMP)系統,應…
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本研究主要為結合超臨界微細發泡射出成形技術(Microcellular Injection Molding, MIM)與化學機械平坦化製程(Chemical Mechanical Planariza…
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單晶藍寶石(Sapphire)是一種高透光性、耐高溫且高硬度的化合物半導體材料,然而也因單晶藍寶石之高硬度和化學穩定性,目前此類晶圓基板的生產大多以鑽石線鋸(Diamond Wire Sawing,…
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3-D 影片在合成虛擬彩圖前,將低解析度深度圖放大到高解析度是一個必要的步驟。本篇論文提出一個三階段植基於內容感知濾波的放大深度圖方法。在所提方法中,第一階段使用深度複製方法重建平滑區中缺少的深度像…
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化學機械平坦化/拋光(CMP)製程已被廣泛用於製造積體電路(IC)。為了使製造IC的成本降低,晶圓的尺寸越來越大,CMP製程就需要使用夠大的拋光墊。較大的拋光墊尺寸會導致在CMP製程中,拋光墊表面形…
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老花眼是四十歲以後人們看不清楚近物的現象,有老花眼的人數迅速增加,老花眼矯正方法不僅能提供良好的光學視覺,更具有時尚性及便利性,同步多焦點隱形眼鏡(Multifocal Contact Lens…